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Informe de la industria de sustratos de carburo de silicio: Los avances tecnológicos y la expansión de las aplicaciones impulsan un nuevo impulso de crecimiento

Informe de la industria de sustratos de carburo de silicio: Los avances tecnológicos y la expansión de las aplicaciones impulsan un nuevo impulso de crecimiento

2025-11-21

Impulsada por el rápido auge de los vehículos eléctricos, los sistemas de energía renovable y las tecnologías de comunicación de próxima generación, la industria de sustratos de carburo de silicio (SiC) ha entrado en un período de expansión acelerada. Como material central en los semiconductores de banda ancha, el SiC permite un rendimiento de dispositivos de alta temperatura, alto voltaje y alta frecuencia más allá de los límites del silicio tradicional. Con el aumento de la capacidad de producción, el mercado se está moviendo hacia una adopción más amplia, menores costos y una mejora tecnológica continua.

1. Descripción general de los sustratos de carburo de silicio

1.1 Propiedades del carburo de silicio

El carburo de silicio (SiC) es un compuesto sintético compuesto de silicio y carbono. Presenta un punto de fusión muy alto (~2700°C), una dureza solo superada por el diamante, alta conductividad térmica, una amplia banda prohibida, un alto campo eléctrico de ruptura y una rápida velocidad de deriva de saturación de electrones. Estas características hacen del SiC uno de los materiales más importantes para la electrónica de potencia y las aplicaciones de RF.

1.2 Tipos de sustratos SiC

Los sustratos SiC se clasifican por resistividad eléctrica:

  • Sustratos semi-aislantes (≥10⁵ Ω·cm), utilizados para dispositivos RF GaN-on-SiC en comunicación 5G, radar y electrónica de alta frecuencia.

  • Sustratos conductivos (15–30 mΩ·cm), utilizados para obleas epitaxiales de SiC en dispositivos de potencia para vehículos eléctricos, energía renovable, módulos industriales y tránsito ferroviario.

últimas noticias de la compañía sobre Informe de la industria de sustratos de carburo de silicio: Los avances tecnológicos y la expansión de las aplicaciones impulsan un nuevo impulso de crecimiento  0

2. Cadena de la industria del material SiC

La cadena de valor del SiC consta de síntesis de materia prima, crecimiento de cristales, mecanizado de lingotes, corte de obleas, rectificado, pulido, crecimiento epitaxial, fabricación de dispositivos y aplicaciones posteriores. Entre estos pasos, la fabricación de sustratos tiene las barreras técnicas y la contribución de costos más altas, lo que representa aproximadamente el 46% del costo total del dispositivo.

Los sustratos semi-aislantes admiten aplicaciones de RF de alta frecuencia, mientras que los sustratos conductivos sirven a los mercados de dispositivos de alta potencia y alto voltaje.

3. Proceso de fabricación de sustratos SiC

La producción de sustratos SiC requiere docenas de pasos de alta precisión para controlar los defectos, la pureza y la uniformidad.

3.1 Síntesis de materia prima

Los polvos de silicio y carbono de alta pureza se mezclan y reaccionan a temperaturas superiores a 2000°C para formar polvo de SiC con fases cristalinas y niveles de impurezas controlados.

3.2 Crecimiento de cristales

El crecimiento de cristales es el paso más crítico que afecta la calidad del sustrato. Los métodos principales incluyen:

  • PVT (Transporte físico de vapor): El método industrial principal donde el polvo de SiC se sublima y se recristaliza en un cristal semilla.

  • HTCVD (CVD a alta temperatura): Permite una mayor pureza y menores niveles de defectos, pero requiere equipos más complejos.

  • LPE (Epitaxia de fase líquida): Capaz de producir cristales con pocos defectos, pero de mayor costo y más complejo de escalar.

3.3 Procesamiento de lingotes

El cristal cultivado se orienta, se da forma y se rectifica en lingotes estandarizados.

3.4 Fabricación de obleas

Las sierras de hilo de diamante cortan el lingote en obleas, que se someten a inspección de deformación, comba y TTV.

3.5 Rectificado y pulido

Los procesos mecánicos y químicos adelgazan la superficie, eliminan los daños y logran una planitud a nivel de nanómetros.

3.6 Limpieza final

Los procedimientos ultralimpios eliminan partículas, iones metálicos y contaminantes orgánicos, produciendo el sustrato SiC final.

4. Perspectivas del mercado global

La investigación de la industria indica que el mercado global de sustratos de SiC alcanzó aproximadamente USD 754 millones en 2022, lo que representa un crecimiento interanual del 27,8%. Se espera que el mercado alcance los USD 1.6 mil millones para 2025.

Los sustratos conductivos representan alrededor del 68% de la demanda, impulsados por los vehículos eléctricos y la energía renovable. Los sustratos semi-aislantes representan alrededor del 32%, impulsados por las aplicaciones 5G y de alta frecuencia.

5. Panorama competitivo

La industria tiene altos umbrales técnicos, incluidos largos ciclos de I+D, control de defectos de cristales y requisitos de equipos avanzados. Si bien los proveedores globales actualmente tienen posiciones sólidas en sustratos conductivos, los fabricantes nacionales están mejorando rápidamente la calidad del crecimiento de cristales, el control de la densidad de defectos y las capacidades de gran diámetro. La competitividad de costos dependerá cada vez más de la mejora del rendimiento y la escala de producción.

6. Tendencias de desarrollo futuro

6.1 Diámetros de sustrato más grandes

La transición a obleas de gran diámetro es esencial para reducir el costo por dispositivo e impulsar la producción.

  • Los sustratos semi-aislantes están pasando de 4 pulgadas a 6 pulgadas.

  • Los sustratos conductivos están migrando de 6 pulgadas a 8 pulgadas.

6.2 Menor densidad de defectos

Reducir las micropipas, las dislocaciones del plano basal y los defectos de apilamiento es clave para lograr una fabricación de dispositivos de alto rendimiento.

6.3 Reducción de costos a través de la escala

A medida que más fabricantes alcancen la producción a escala industrial, las ventajas de costos y la estabilidad del suministro acelerarán la adopción global de dispositivos SiC.

6.4 Demanda impulsada por la electrificación y los sistemas de alta potencia

Un fuerte impulso de crecimiento proviene de los vehículos eléctricos, la infraestructura de carga rápida, la energía fotovoltaica, los sistemas de almacenamiento de energía, los módulos de potencia industrial y los sistemas de comunicación avanzados.

Conclusión

La industria de sustratos de carburo de silicio está entrando en una ventana estratégica de crecimiento caracterizada por la expansión de aplicaciones, el rápido progreso tecnológico y el aumento de la escala de producción. A medida que aumentan los tamaños de las obleas y mejora la calidad de los cristales, el SiC desempeñará un papel cada vez más importante en la electrificación global y los sistemas de conversión de energía. Los fabricantes que lideren en el control de defectos, la optimización del rendimiento y la tecnología de gran diámetro aprovecharán la próxima fase de la oportunidad de mercado.

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2025-11-21

Impulsada por el rápido auge de los vehículos eléctricos, los sistemas de energía renovable y las tecnologías de comunicación de próxima generación, la industria de sustratos de carburo de silicio (SiC) ha entrado en un período de expansión acelerada. Como material central en los semiconductores de banda ancha, el SiC permite un rendimiento de dispositivos de alta temperatura, alto voltaje y alta frecuencia más allá de los límites del silicio tradicional. Con el aumento de la capacidad de producción, el mercado se está moviendo hacia una adopción más amplia, menores costos y una mejora tecnológica continua.

1. Descripción general de los sustratos de carburo de silicio

1.1 Propiedades del carburo de silicio

El carburo de silicio (SiC) es un compuesto sintético compuesto de silicio y carbono. Presenta un punto de fusión muy alto (~2700°C), una dureza solo superada por el diamante, alta conductividad térmica, una amplia banda prohibida, un alto campo eléctrico de ruptura y una rápida velocidad de deriva de saturación de electrones. Estas características hacen del SiC uno de los materiales más importantes para la electrónica de potencia y las aplicaciones de RF.

1.2 Tipos de sustratos SiC

Los sustratos SiC se clasifican por resistividad eléctrica:

  • Sustratos semi-aislantes (≥10⁵ Ω·cm), utilizados para dispositivos RF GaN-on-SiC en comunicación 5G, radar y electrónica de alta frecuencia.

  • Sustratos conductivos (15–30 mΩ·cm), utilizados para obleas epitaxiales de SiC en dispositivos de potencia para vehículos eléctricos, energía renovable, módulos industriales y tránsito ferroviario.

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2. Cadena de la industria del material SiC

La cadena de valor del SiC consta de síntesis de materia prima, crecimiento de cristales, mecanizado de lingotes, corte de obleas, rectificado, pulido, crecimiento epitaxial, fabricación de dispositivos y aplicaciones posteriores. Entre estos pasos, la fabricación de sustratos tiene las barreras técnicas y la contribución de costos más altas, lo que representa aproximadamente el 46% del costo total del dispositivo.

Los sustratos semi-aislantes admiten aplicaciones de RF de alta frecuencia, mientras que los sustratos conductivos sirven a los mercados de dispositivos de alta potencia y alto voltaje.

3. Proceso de fabricación de sustratos SiC

La producción de sustratos SiC requiere docenas de pasos de alta precisión para controlar los defectos, la pureza y la uniformidad.

3.1 Síntesis de materia prima

Los polvos de silicio y carbono de alta pureza se mezclan y reaccionan a temperaturas superiores a 2000°C para formar polvo de SiC con fases cristalinas y niveles de impurezas controlados.

3.2 Crecimiento de cristales

El crecimiento de cristales es el paso más crítico que afecta la calidad del sustrato. Los métodos principales incluyen:

  • PVT (Transporte físico de vapor): El método industrial principal donde el polvo de SiC se sublima y se recristaliza en un cristal semilla.

  • HTCVD (CVD a alta temperatura): Permite una mayor pureza y menores niveles de defectos, pero requiere equipos más complejos.

  • LPE (Epitaxia de fase líquida): Capaz de producir cristales con pocos defectos, pero de mayor costo y más complejo de escalar.

3.3 Procesamiento de lingotes

El cristal cultivado se orienta, se da forma y se rectifica en lingotes estandarizados.

3.4 Fabricación de obleas

Las sierras de hilo de diamante cortan el lingote en obleas, que se someten a inspección de deformación, comba y TTV.

3.5 Rectificado y pulido

Los procesos mecánicos y químicos adelgazan la superficie, eliminan los daños y logran una planitud a nivel de nanómetros.

3.6 Limpieza final

Los procedimientos ultralimpios eliminan partículas, iones metálicos y contaminantes orgánicos, produciendo el sustrato SiC final.

4. Perspectivas del mercado global

La investigación de la industria indica que el mercado global de sustratos de SiC alcanzó aproximadamente USD 754 millones en 2022, lo que representa un crecimiento interanual del 27,8%. Se espera que el mercado alcance los USD 1.6 mil millones para 2025.

Los sustratos conductivos representan alrededor del 68% de la demanda, impulsados por los vehículos eléctricos y la energía renovable. Los sustratos semi-aislantes representan alrededor del 32%, impulsados por las aplicaciones 5G y de alta frecuencia.

5. Panorama competitivo

La industria tiene altos umbrales técnicos, incluidos largos ciclos de I+D, control de defectos de cristales y requisitos de equipos avanzados. Si bien los proveedores globales actualmente tienen posiciones sólidas en sustratos conductivos, los fabricantes nacionales están mejorando rápidamente la calidad del crecimiento de cristales, el control de la densidad de defectos y las capacidades de gran diámetro. La competitividad de costos dependerá cada vez más de la mejora del rendimiento y la escala de producción.

6. Tendencias de desarrollo futuro

6.1 Diámetros de sustrato más grandes

La transición a obleas de gran diámetro es esencial para reducir el costo por dispositivo e impulsar la producción.

  • Los sustratos semi-aislantes están pasando de 4 pulgadas a 6 pulgadas.

  • Los sustratos conductivos están migrando de 6 pulgadas a 8 pulgadas.

6.2 Menor densidad de defectos

Reducir las micropipas, las dislocaciones del plano basal y los defectos de apilamiento es clave para lograr una fabricación de dispositivos de alto rendimiento.

6.3 Reducción de costos a través de la escala

A medida que más fabricantes alcancen la producción a escala industrial, las ventajas de costos y la estabilidad del suministro acelerarán la adopción global de dispositivos SiC.

6.4 Demanda impulsada por la electrificación y los sistemas de alta potencia

Un fuerte impulso de crecimiento proviene de los vehículos eléctricos, la infraestructura de carga rápida, la energía fotovoltaica, los sistemas de almacenamiento de energía, los módulos de potencia industrial y los sistemas de comunicación avanzados.

Conclusión

La industria de sustratos de carburo de silicio está entrando en una ventana estratégica de crecimiento caracterizada por la expansión de aplicaciones, el rápido progreso tecnológico y el aumento de la escala de producción. A medida que aumentan los tamaños de las obleas y mejora la calidad de los cristales, el SiC desempeñará un papel cada vez más importante en la electrificación global y los sistemas de conversión de energía. Los fabricantes que lideren en el control de defectos, la optimización del rendimiento y la tecnología de gran diámetro aprovecharán la próxima fase de la oportunidad de mercado.