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Detalles de los productos

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Substrato del semiconductor
Created with Pixso.

Oblea de la capa de la plantilla de Sapphire Substrate AlN de 2 pulgadas para los dispositivos de 5G BAW

Oblea de la capa de la plantilla de Sapphire Substrate AlN de 2 pulgadas para los dispositivos de 5G BAW

Nombre De La Marca: ZMKJ
Número De Modelo: AlN-zafiro 2inch
MOQ: 5pcs
Precio: by case
Detalles Del Embalaje: solo envase de la oblea en sitio de limpieza
Condiciones De Pago: T/T, Western Union, Paypal
Información detallada
Lugar de origen:
China
substrato:
oblea del zafiro
capa:
Plantilla de AlN
grueso de la capa:
1-5um
tipo de la conductividad:
N/P
Orientación:
0001
uso:
poder más elevado/dispositivos electrónicos de alta frecuencia
uso 2:
dispositivos de 5G saw/BAW
grueso del silicio:
525um/625um/725um
Capacidad de la fuente:
50PCS/Month
Resaltar:

plantilla de AlN de 2 pulgadas

,

plantilla de AlN de los dispositivos de 5G BAW

,

substrato del zafiro de 2 pulgadas

Descripción de producto

el zafiro de 2inch 4iinch 6Inch basó la película de AlN de las plantillas de AlN en el substrato del zafiro

2inch en la oblea de la capa de la plantilla de AlN del substrato del zafiro para los dispositivos de 5G BAW

 

Usos de   Plantilla de AlN
 
  Nuestro OEM ha desarrollado los seriales de tecnologías propietarias y los reactores y las instalaciones del crecimiento de -estado-de- art PVT a
fabrique diversos tamaños de las obleas monocristalinas de alta calidad de AlN, temlpates de AlN. Somos uno del pocos mundo-principales
¿compañías de alta tecnología que propio capa lleno de la fabricación de AlN? bilities para producir los boules y las obleas de alta calidad de AlN, y a proporcionar
¿profes? servicios del sional y soluciones de llavero a nuestros clientes, dispuestos del diseño del reactor y del hotzone del crecimiento,
modelado y simulación, diseño de proceso y optimización, crecimiento cristalino,
¿characteriza wafering y material? tion. Hasta abril de 2019, han aplicado más de 27 patentes (PCT incluyendo).
 
             Especificación
 
EspecificaciónOblea de la capa de la plantilla de Sapphire Substrate AlN de 2 pulgadas para los dispositivos de 5G BAW 0aracteristic del Ch

 

La otra especificación del relaterd 4INCH GaN Template

 

 

     
  Substratos del ₃ del ₂ O del Al de GaN/(4") 4inch
Artículo Sin impurificar N-tipo

Alto-dopado

N-tipo

Tamaño (milímetros) Φ100.0±0.5 (4")
Estructura del substrato GaN en el zafiro (0001)
SurfaceFinished (Estándar: Opción del SSP: DSP)
Grueso (μm) 4.5±0.5; 20±2; Modificado para requisitos particulares
Tipo de la conducción Sin impurificar N-tipo N-tipo Alto-dopado
Resistencia (Ω·cm) (300K) ≤0.5 ≤0.05 ≤0.01
GaN Thickness Uniformity
 
el ≤±10% (4")
Densidad de dislocación (cm2s)
 
≤5×108
Superficie usable el >90%
Paquete Empaquetado en un ambiente del sitio limpio de la clase 100.
 

 

Oblea de la capa de la plantilla de Sapphire Substrate AlN de 2 pulgadas para los dispositivos de 5G BAW 1Oblea de la capa de la plantilla de Sapphire Substrate AlN de 2 pulgadas para los dispositivos de 5G BAW 2

Estructura cristalina

Wurzita

Constante del enrejado (Å) a=3.112, c=4.982
Tipo de la banda de conducción Bandgap directo
Densidad (g/cm3) 3,23
Microdureza superficial (prueba de Knoop) 800
Punto de fusión (℃) 2750 (barra 10-100 en N2)
Conductividad termal (W/m·K) 320
Energía del hueco de banda (eV) 6,28
Movilidad de electrón (V·s/cm2) 1100
Campo eléctrico de la avería (MV/cm) 11,7

Oblea de la capa de la plantilla de Sapphire Substrate AlN de 2 pulgadas para los dispositivos de 5G BAW 3Oblea de la capa de la plantilla de Sapphire Substrate AlN de 2 pulgadas para los dispositivos de 5G BAW 4