• Capa de óxido térmico SiO2 espesor de la oblea 20um Sistema de comunicación óptica MEMS
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Capa de óxido térmico SiO2 espesor de la oblea 20um Sistema de comunicación óptica MEMS

Capa de óxido térmico SiO2 espesor de la oblea 20um Sistema de comunicación óptica MEMS

Datos del producto:

Lugar de origen: China
Nombre de la marca: ZMSH
Número de modelo: Ultra-thick silicon oxide wafer

Pago y Envío Términos:

Cantidad de orden mínima: 5
Tiempo de entrega: 2-4 semanas
Condiciones de pago: T/T,
Mejor precio Contacto

Información detallada

Punto de ebullición: 2,230° C (4,046° F) SONRISAS: O=[Si]=O
Tolerancia del espesor del óxido: +/- 5% (ambos lados) Indice de refracción: Aproximadamente 1.44
Conductividad térmica: Alrededor de 1,4 W/ ((m·K) @ 300K Peso molecular: 60.09
Áreas de aplicación: Fabricación de semiconductores, microelectrónica, dispositivos ópticos, etc. Indice de refracción: 550nm de 1,4458 ± 0.0001
Alta luz:

Sistema de comunicación óptica Wafer de dióxido de silicio

,

Oxido térmico de la capa SiO2 Wafer

,

Wafer de 20um SiO2

Descripción de producto

 

Sistema de comunicación óptica MEMS

Descripción del producto:

La oblea de dióxido de silicio SIO2 sirve como elemento fundamental en la fabricación de semiconductores.este sustrato crucial está disponible en diámetros de 6 pulgadas y 8 pulgadasEn primer lugar, actúa como una capa aislante esencial, desempeñando un papel fundamental en la microelectrónica al proporcionar una alta resistencia dieléctrica.Su índice de refracción, aproximadamente 1.4458 a 1550nm, garantiza un rendimiento óptimo en diversas aplicaciones.

Conocida por su uniformidad y pureza, esta oblea es una opción ideal para dispositivos ópticos, circuitos integrados y microelectrónica.Sus propiedades facilitan procesos de fabricación de dispositivos precisos y apoyan los avances tecnológicosAdemás de su papel fundamental en la fabricación de semiconductores, amplía su fiabilidad y funcionalidad a un amplio espectro de aplicaciones, garantizando estabilidad y eficiencia.

Con sus atributos excepcionales, la oblea de dióxido de silicio SIO2 continúa impulsando innovaciones en tecnología de semiconductores, permitiendo avances en campos como circuitos integrados,OptoelectrónicaSus contribuciones a las tecnologías de vanguardia subrayan su importancia como material fundamental en el ámbito de la producción de semiconductores.

Capa de óxido térmico SiO2 espesor de la oblea 20um Sistema de comunicación óptica MEMS 0

Características:

  • Nombre del producto: Substrato de semiconductores
  • Indice de refracción: 550nm de 1,4458 ± 0.0001
  • Punto de ebullición: 2,230° C
  • Áreas de aplicación: fabricación de semiconductores, microelectrónica, dispositivos ópticos, etc.
  • espesor: 20 mm, 10 mm y 25 mm
  • Peso molecular: 60.09
  • Material para semiconductores: Sí
  • Material del sustrato: Sí
  • Aplicaciones: Fabricación de semiconductores, microelectrónica, dispositivos ópticos, etc.
 Capa de óxido térmico SiO2 espesor de la oblea 20um Sistema de comunicación óptica MEMS 1

Parámetros técnicos:

Parámetro Especificación
El grosor 20um, 10um y 25um
Densidad 2533 Kg/m3
Tolerancia del espesor del óxido +/- 5% (ambos lados)
Áreas de aplicación Fabricación de semiconductores, microelectrónica, dispositivos ópticos, etc.
Punto de fusión 1,600° C (2,912° F)
Conductividad térmica Alrededor de 1,4 W/ ((m·K) @ 300K
Indice de refracción Aproximadamente 1.44
Peso molecular 60.09
Coeficiente de expansión 0.5 × 10^-6/°C
Indice de refracción 550nm de 1,4458 ± 0.0001
Otros productos de acero o acero Aplicaciones
Oxidación superficial Wafer ultra delgado
Conductividad térmica Alrededor de 1,4 W/ ((m·K) @ 300K
 Capa de óxido térmico SiO2 espesor de la oblea 20um Sistema de comunicación óptica MEMS 2

Aplicaciones:

  1. Transistores de película delgada:Empleado en la producción de dispositivos TFT.
  2. Celdas solares:Se utiliza como sustrato o capa aislante en la tecnología fotovoltaica.
  3. Sistemas MEMS (microelectromecánicos):Es crucial para el desarrollo de dispositivos MEMS.
  4. Sensores químicos:Se utiliza para la detección de sustancias químicas sensibles.
  5. Dispositivos biomédicos:Empleado en varias aplicaciones biomédicas.
  6. Productos fotovoltaicos:Apoya la tecnología de células solares para la conversión de energía.
  7. La pasivación de la superficie:Ayudas para la protección de la superficie de semiconductores.
  8. Guías de onda:Se utiliza en comunicación óptica y fotónica.
  9. Las fibras ópticas:Integral en los sistemas de comunicación óptica.
  10. Sensores de gas:Empleado en detección y análisis de gases.
  11. Las nanoestructuras:Se utiliza como sustrato para el desarrollo de nanoestructuras.
  12. Contenedores:Utilizado en varias aplicaciones eléctricas.
  13. Secuenciación de ADN:Apoya las aplicaciones en la investigación genética.
  14. Biosensores:Se utiliza para análisis biológicos y químicos.
  15. Microfluidos:Integral en la fabricación de dispositivos microfluídicos.
  16. Diodos emisores de luz (LED):Apoya la tecnología LED en varias aplicaciones.
  17. Las partidas de los componentes de los aparatos de la partida 9A001.a.Es esencial para la producción de dispositivos de microprocesador.
 Capa de óxido térmico SiO2 espesor de la oblea 20um Sistema de comunicación óptica MEMS 3Personalización:
Substrato de semiconductores

Nombre de la marca:ZMSH

Número del modelo:Otros productos de acero o acero

El lugar de origen:China.

Nuestro sustrato semiconductor está diseñado con alta conductividad térmica, oxidación superficial y una oblea de óxido de silicio ultra gruesa.4 W/(m·K) @ 300K y punto de fusión de 1El punto de ebullición es 2.230° C y la orientación es <100><11><110>. El peso molecular de este sustrato es 60.09.

 

Apoyo y servicios:

Nuestro equipo de expertos está disponible para responder cualquier pregunta que pueda tener sobre el producto y sus características.También podemos ayudarle a solucionar cualquier problema que encuentre mientras usa el producto.También ofrecemos asistencia remota para aquellos que la necesitan. Nuestro equipo de soporte está disponible durante las horas normales de trabajo, y se puede contactar con nosotros por teléfono, correo electrónico o a través de nuestro sitio web.

 

Embalaje y envío:

Envases y envío de sustratos de semiconductores:

  • Los productos envasados deben manejarse con cuidado y utilizar una cubierta protectora, como una envoltura de burbujas o espuma, siempre que sea posible.
  • Si es posible, use varias capas de protección.
  • Etiquetar el paquete con el contenido y el destino.
  • Envíe el paquete utilizando un servicio de envío apropiado.
 

Preguntas frecuentes:

P: ¿Cuál es el nombre de marca de Sustro de Semiconductores?
R: La marca es ZMSH.
P: ¿Cuál es el número de modelo de Substrato Semiconductor?
R: El número de modelo es una oblea de óxido de silicio ultra gruesa.
P: ¿Dónde se fabrica el sustrato de semiconductores?
R: Se hace en China.
P: ¿Cuál es el propósito del sustrato de semiconductores?
R: El sustrato de semiconductores se utiliza en la fabricación de circuitos integrados, sistemas microelectromecánicos y otras microestructuras.
P: ¿Cuál es la característica del sustrato semiconductor?
R: Las características del sustrato semiconductor incluyen un bajo coeficiente de expansión térmica, una alta conductividad térmica, una alta resistencia mecánica y una excelente resistencia a la temperatura.
 

Quiere saber más detalles sobre este producto
No input file specified. Capa de óxido térmico SiO2 espesor de la oblea 20um Sistema de comunicación óptica MEMS ¿podría enviarme más detalles como tipo, tamaño, cantidad, material, etc.?
¡Gracias!
Esperando su respuesta.