Nombre De La Marca: | ZMSH |
Substrato cuadrado SIC 5×5 10×10 350um Fuera del eje: 2.0°-4.0° hacia la producción
Los sustratos cuadrados de carburo de silicio (SiC) son materiales críticos en dispositivos de semiconductores avanzados, particularmente en aplicaciones de alta potencia y alta frecuencia.alta tensión de ruptura, y el amplio intervalo de banda lo convierten en una opción ideal para la próxima generación de electrónica de potencia, especialmente en ambientes hostiles.La forma cuadrada de estos sustratos facilita un uso eficiente en la fabricación de dispositivos y asegura la compatibilidad con varios equipos de procesamientoAdemás, los sustratos de SiC con ángulos fuera del eje que oscilan entre 2.0° y 4.0° se utilizan ampliamente para mejorar la calidad de la capa epitaxial mediante la reducción de defectos como micropipes y dislocaciones.Estos sustratos también desempeñan un papel fundamental en el desarrollo de diodos de alto rendimientoLa demanda de sistemas energéticamente eficientes continúa creciendo, lo que hace que los sistemas de alta eficiencia y fiabilidad de los transistores y otros componentes electrónicos sean primordiales.Los sustratos cuadrados de SiC ofrecen soluciones prometedoras en sectores como los vehículos eléctricosLa investigación en curso se centra en la optimización de la producción de sustratos de SiC para reducir costos y mejorar el rendimiento del material.Este resumen describe la importancia de los sustratos cuadrados de SiC y su papel en el avance de las tecnologías de semiconductores modernas.
Las propiedades de un sustrato cuadrado de carburo de silicio (SiC) son críticas para su rendimiento en aplicaciones de semiconductores.
La banda ancha (3.26 eV): SiC tiene una banda ancha mucho más amplia que el silicio, lo que le permite operar a temperaturas, voltajes y frecuencias más altas sin degradar el rendimiento.
Alta conductividad térmica (3,7 W/cm·K): La excelente conductividad térmica del SiC permite una disipación de calor eficaz, lo que lo hace ideal para aplicaciones de alta potencia.
Campo eléctrico de alta degradación (3 MV/cm): SiC puede soportar campos eléctricos más altos que el silicio, lo cual es crucial para los dispositivos de alto voltaje, reduciendo el riesgo de avería y mejorando la eficiencia.
Alta movilidad de electrones (950 cm2/V·s): Aunque ligeramente inferior al silicio, el SiC todavía ofrece una buena movilidad de electrones, lo que permite velocidades de conmutación más rápidas en dispositivos electrónicos.
Dureza mecánica: El SiC es un material extremadamente duro con una dureza de Mohs de aproximadamente 9.5, por lo que es altamente resistente al desgaste y capaz de mantener la integridad estructural en condiciones extremas.
Estabilidad química: El SiC es químicamente inerte, resistente a la oxidación y la corrosión, por lo que es adecuado para condiciones químicas y ambientales adversas.
Ángulo fuera del eje: Muchos sustratos de SiC tienen un corte fuera del eje (por ejemplo, 2.0 °-4.0 °) para mejorar el crecimiento de la capa epitaxial, reduciendo defectos como micropipes y dislocaciones en la estructura cristalina.
Baja densidad de defectos: Los sustratos de SiC de alta calidad tienen una baja densidad de defectos cristalinos, mejorando el rendimiento y la fiabilidad de los dispositivos electrónicos.
Estas propiedades hacen que los sustratos cuadrados de SiC sean ideales para aplicaciones en electrónica de potencia, vehículos eléctricos, telecomunicaciones y sistemas de energía renovable,donde es esencial una alta eficiencia y durabilidad.
Los principales parámetros de rendimiento | |
Nombre del producto
|
Substrato de carburo de silicio, oblea de carburo de silicio, oblea de SiC, sustrato de SiC
|
Método de crecimiento
|
Se trata de un sistema de control.
|
Estructura de cristal
|
6 horas, 4 horas
|
Parámetros de la red
|
6H ((a=3,073 Å c=15,117 Å),
4H ((a=3,076 Å c=10,053 Å) |
Secuencia de apilamiento
|
6H: ABCACB,
4H: ABCB |
Grado
|
Grado de producción, grado de investigación, grado de imitación
|
Tipo de conductividad
|
De tipo N o semisolvente |
- ¿ Qué haces?
|
3.23 eV
|
Dureza
|
9.2 (Mohs)
|
Conductividad térmica @300K
|
3.2~4.9 W/cm.K
|
Constantes dieléctricas
|
e(11)=e(22)=9.66 e(33)=10.33
|
Resistencia
|
4H-SiC-N: 0,015 ~ 0,028 Ω·cm, 6H-SiC-N: 0,02 a 0,1 Ω·cm, 4H/6H-SiC-SI: > 1E7 Ω·cm |
Envasado
|
Bolsa limpia de clase 100, en la sala limpia de clase 1000
|
Los sustratos cuadrados de carburo de silicio (SiC) han encontrado aplicaciones reales en varias industrias de alta tecnología, principalmente debido a sus excepcionales propiedades térmicas, eléctricas y mecánicas.Algunas de las aplicaciones clave incluyen::
Estas aplicaciones demuestran la versatilidad y el impacto de los sustratos cuadrados de SiC para permitir soluciones de alto rendimiento y eficiencia energética en diversas industrias.
P: ¿Qué son los sustratos de SiC?
A: ¿Qué quieres decir?Las obleas y sustratos de carburo de silicio (SiC) son:materiales especializados utilizados en la tecnología de semiconductores hechos de carburo de silicio, un compuesto conocido por su alta conductividad térmica, excelente resistencia mecánica y amplia banda.