Nombre De La Marca: | ZMSH |
Número De Modelo: | Wafer de sic |
Condiciones De Pago: | T/T |
SiC Substrato 4H/6H-P 3C-N 45,5 mm~150,0 mm Z grado P grado D grado
Este estudio explora las propiedades estructurales y electrónicas de los sustratos de carburo de silicio (SiC) de politipo 4H/6H integrados con películas de SiC 3C-N cultivadas epitaxialmente.La transición politípica entre 4H/6H-SiC y 3C-N-SiC ofrece oportunidades únicas para mejorar el rendimiento de los dispositivos semiconductores basados en SiCA través de la deposición de vapor químico a alta temperatura (CVD), las películas 3C-SiC se depositan en sustratos 4H/6H-SiC, con el objetivo de reducir el desajuste de la red y las densidades de dislocación.Análisis detallado mediante difracción de rayos X (XRD), la microscopía de fuerza atómica (AFM) y la microscopía de electrones de transmisión (TEM) revelan la alineación epitaxial y la morfología superficial de las películas.Las mediciones eléctricas indican una mayor movilidad del portador y un mayor voltaje de ruptura, lo que hace que esta configuración de sustrato sea prometedora para aplicaciones electrónicas de alta potencia y alta frecuencia de próxima generación.El estudio destaca la importancia de optimizar las condiciones de crecimiento para minimizar los defectos y mejorar la coherencia estructural entre los diferentes politipos de SiC.
Los sustratos de carburo de silicio (SiC) de politipo 4H/6H (P) con películas de SiC 3C-N (dopadas con nitrógeno) presentan una combinación de propiedades que son beneficiosas para diversos productos de alta potencia, alta frecuencia,y aplicaciones de alta temperaturaEstas son las propiedades clave de estos materiales:
Estas propiedades hacen de la combinación de 4H/6H-P y 3C-N SiC un sustrato versátil para una amplia gama de aplicaciones electrónicas, optoelectrónicas y de alta temperatura avanzadas.
La combinación de sustratos 4H/6H-P y 3C-N SiC tiene una gama de aplicaciones en varias industrias, particularmente en dispositivos de alta potencia, alta temperatura y alta frecuencia.A continuación se presentan algunas de las aplicaciones clave:
Estas aplicaciones ponen de relieve la versatilidad y la importancia de los sustratos 4H/6H-P 3C-N SiC en el avance de la tecnología moderna en una variedad de industrias.
¿Cuál es la diferencia entre 4H-SiC y 6H-SiC?
En resumen, al elegir entre 4H-SiC y 6H-SiC: Opte por 4H-SiC para electrónica de alta potencia y alta frecuencia donde la gestión térmica es crítica.Elegir 6H-SiC para aplicaciones que prioricen la emisión de luz y la durabilidad mecánica, incluidos los LED y los componentes mecánicos.
Palabras clave: Wafer de carburo de silicio