• SiC Substrato 4H/6H-P 3C-N 145,5 mm~150,0 mm Z grado P grado D grado
  • SiC Substrato 4H/6H-P 3C-N 145,5 mm~150,0 mm Z grado P grado D grado
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SiC Substrato 4H/6H-P 3C-N 145,5 mm~150,0 mm Z grado P grado D grado

SiC Substrato 4H/6H-P 3C-N 145,5 mm~150,0 mm Z grado P grado D grado

Datos del producto:

Lugar de origen: China.
Nombre de la marca: ZMSH
Número de modelo: Wafer de sic

Pago y Envío Términos:

Tiempo de entrega: 2-4weeks
Condiciones de pago: T/T
Mejor precio Contacto

Información detallada

Diámetro: 145.5 mm ~ 150,0 mm El grosor: 350 μm ± 25 μm
Orientación de la oblea: En el eje opuesto: 2,0°-4,0° hacia ሾ112ത0 ± 0,5° para 4H/6H-P, en el eje: ?? 111 ± 0,5° para 3C-N Densidad de Micropipe: 0 cm-2
Tipo de producto: el tipo p 4H/6H-P n tipo 3C-N Orientación plana primaria: Se aplicarán las siguientes medidas:
Exclusión del borde: 3 milímetros Polonés: Ra ≤ 1 nm
Resaltar:

El substrato 4H/6H-P SiC

,

el substrato 3C-N SiC

Descripción de producto

SiC Substrato 4H/6H-P 3C-N 45,5 mm~150,0 mm Z grado P grado D grado

Resumen del sustrato de SiC 4H/6H-P 3C-N

Este estudio explora las propiedades estructurales y electrónicas de los sustratos de carburo de silicio (SiC) de politipo 4H/6H integrados con películas de SiC 3C-N cultivadas epitaxialmente.La transición politípica entre 4H/6H-SiC y 3C-N-SiC ofrece oportunidades únicas para mejorar el rendimiento de los dispositivos semiconductores basados en SiCA través de la deposición de vapor químico a alta temperatura (CVD), las películas 3C-SiC se depositan en sustratos 4H/6H-SiC, con el objetivo de reducir el desajuste de la red y las densidades de dislocación.Análisis detallado mediante difracción de rayos X (XRD), la microscopía de fuerza atómica (AFM) y la microscopía de electrones de transmisión (TEM) revelan la alineación epitaxial y la morfología superficial de las películas.Las mediciones eléctricas indican una mayor movilidad del portador y un mayor voltaje de ruptura, lo que hace que esta configuración de sustrato sea prometedora para aplicaciones electrónicas de alta potencia y alta frecuencia de próxima generación.El estudio destaca la importancia de optimizar las condiciones de crecimiento para minimizar los defectos y mejorar la coherencia estructural entre los diferentes politipos de SiC.

 

SiC Substrato 4H/6H-P 3C-N 145,5 mm~150,0 mm Z grado P grado D grado 0

 

Las propiedades del sustrato 4H/6H-P 3C-N SiC

Los sustratos de carburo de silicio (SiC) de politipo 4H/6H (P) con películas de SiC 3C-N (dopadas con nitrógeno) presentan una combinación de propiedades que son beneficiosas para diversos productos de alta potencia, alta frecuencia,y aplicaciones de alta temperaturaEstas son las propiedades clave de estos materiales:

1.Politipos y estructura cristalina:

  • 4H-SiC y 6H-SiC:Estas son estructuras cristalinas hexagonales con diferentes secuencias de apilamiento de bicapas de Si-C. La "H" denota simetría hexagonal, y los números se refieren al número de capas en la secuencia de apilamiento.
    • 4H-SiC:Ofrece una mayor movilidad de electrones y un intervalo de banda más amplio (alrededor de 3.2 eV), lo que lo hace adecuado para dispositivos de alta frecuencia y alta potencia.
    • 6H-SiC:Tiene una movilidad de electrones y un intervalo de banda ligeramente más bajos (alrededor de 3,0 eV) en comparación con el 4H-SiC, pero todavía se utiliza en electrónica de potencia.
  • Las partidas de acero y sus componentes:La forma cúbica de SiC (3C-SiC) suele tener una estructura cristalina más isotrópica, lo que conduce a un crecimiento epitaxial más fácil en sustratos con densidades de dislocación más bajas.36 eV y es favorable para la integración con dispositivos electrónicos.

2.Propiedades electrónicas:

  • Amplia banda de separación:SiC tiene una banda ancha que le permite operar eficientemente a altas temperaturas y voltajes.
    • 4H-SiC:3.2 eV
    • 6H-SiC:3.0 eV
    • 3C-SiC:2.36 eV
  • Campo eléctrico de alta degradación:El campo eléctrico de alta degradación (~ 3-4 MV / cm) hace que estos materiales sean ideales para dispositivos de energía que necesitan soportar altos voltajes sin romperse.
  • Movilidad de los transportistas:
    • 4H-SiC:Alta movilidad de electrones (~ 800 cm2/Vs) en comparación con el 6H-SiC.
    • 6H-SiC:Movilidad electrónica moderada (~ 400 cm2/Vs).
    • 3C-SiC:La forma cúbica generalmente tiene una mayor movilidad de electrones que las formas hexagonales, lo que la hace deseable para dispositivos electrónicos.

3.Propiedades térmicas:

  • Alta conductividad térmica:El SiC tiene una excelente conductividad térmica (~ 3-4 W/cm·K), lo que permite una disipación de calor eficiente, que es crucial para la electrónica de alta potencia.
  • Estabilidad térmica:El SiC se mantiene estable a temperaturas superiores a 1000 °C, por lo que es adecuado para ambientes de alta temperatura.

4.Propiedades mecánicas:

  • Alta dureza y resistencia:El SiC es un material extremadamente duro (dureza de Mohs de 9,5), por lo que es resistente al desgaste y al daño mecánico.
  • El módulo de alta juventud:Tiene un alto módulo de Young (~410 GPa), lo que contribuye a su rigidez y durabilidad en aplicaciones mecánicas.

5.Propiedades químicas:

  • Estabilidad química:El SiC es altamente resistente a la corrosión química y la oxidación, lo que lo hace adecuado para ambientes hostiles, incluidos aquellos con gases y productos químicos corrosivos.
  • Baja reactividad química:Esta propiedad mejora aún más su estabilidad y rendimiento en aplicaciones exigentes.

6.Propiedades optoelectrónicas:

  • La fotoluminiscencia:El 3C-SiC exhibe fotoluminiscencia, lo que lo hace útil en dispositivos optoelectrónicos, particularmente aquellos que operan en el rango ultravioleta.
  • Alta sensibilidad a los rayos UVEl amplio intervalo de banda de los materiales de SiC les permite ser utilizados en detectores UV y otras aplicaciones optoelectrónicas.

7.Características del dopaje:

  • Dopaje por nitrógeno (tipo N):El nitrógeno se utiliza a menudo como dopante de tipo n en 3C-SiC, lo que mejora su conductividad y la concentración de portadores de electrones.El control preciso de los niveles de dopaje permite ajustar las propiedades eléctricas del sustrato.

8.Aplicaciones:

  • Electrónica de potencia:El alto voltaje de ruptura, el amplio intervalo de banda y la conductividad térmica hacen que estos sustratos sean ideales para dispositivos electrónicos de potencia como MOSFET, IGBT y diodos Schottky.
  • Dispositivos de alta frecuenciaLa alta movilidad de electrones en 4H-SiC y 3C-SiC permite una operación eficiente de alta frecuencia, lo que los hace adecuados para aplicaciones de RF y microondas.
  • Optomecánica:Las propiedades ópticas del 3C-SiC lo convierten en un candidato para detectores UV y otras aplicaciones fotónicas.

Estas propiedades hacen de la combinación de 4H/6H-P y 3C-N SiC un sustrato versátil para una amplia gama de aplicaciones electrónicas, optoelectrónicas y de alta temperatura avanzadas.

SiC Substrato 4H/6H-P 3C-N 145,5 mm~150,0 mm Z grado P grado D grado 1

Foto del sustrato SiC 4H/6H-P 3C-N

SiC Substrato 4H/6H-P 3C-N 145,5 mm~150,0 mm Z grado P grado D grado 2SiC Substrato 4H/6H-P 3C-N 145,5 mm~150,0 mm Z grado P grado D grado 3

 

Aplicaciones del sustrato 4H/6H-P 3C-N SiC

La combinación de sustratos 4H/6H-P y 3C-N SiC tiene una gama de aplicaciones en varias industrias, particularmente en dispositivos de alta potencia, alta temperatura y alta frecuencia.A continuación se presentan algunas de las aplicaciones clave:

1.Electrónica de potencia:

  • Dispositivos de alimentación de alto voltaje:El amplio intervalo de banda y el alto campo eléctrico de descomposición de 4H-SiC y 6H-SiC hacen que estos sustratos sean ideales para dispositivos de energía como MOSFET, IGBT,y diodos Schottky que necesitan funcionar a altos voltajes y corrientesEstos dispositivos se utilizan en vehículos eléctricos (VE), motores industriales y redes eléctricas.
  • Conversión de potencia de alta eficiencia:Los dispositivos basados en SiC permiten una conversión de energía eficiente con bajas pérdidas de energía, lo que los hace adecuados para aplicaciones como inversores en sistemas de energía solar, turbinas eólicas,y transmisión de energía eléctrica.

2.Aplicaciones de alta frecuencia y RF:

  • Dispositivos de radiofrecuencia y microondas:La alta movilidad electrónica y el voltaje de ruptura del 4H-SiC lo hacen adecuado para dispositivos de radiofrecuencia (RF) y microondas.y comunicaciones por satélite, donde el funcionamiento de alta frecuencia y la estabilidad térmica son esenciales.
  • Las telecomunicaciones 5G:Los sustratos de SiC se utilizan en amplificadores de potencia y interruptores para redes 5G debido a su capacidad para manejar señales de alta frecuencia con bajas pérdidas de energía.

3.Aeroespacial y Defensa:

  • Sensores y electrónica de alta temperatura:La estabilidad térmica y la resistencia a la radiación del SiC lo hacen adecuado para aplicaciones aeroespaciales y de defensa.y las duras condiciones encontradas en la exploración espacial, equipos militares y sistemas de aviación.
  • Sistemas de alimentación:La electrónica de potencia basada en SiC se utiliza en los sistemas de alimentación de aeronaves y naves espaciales para mejorar la eficiencia energética y reducir el peso y los requisitos de refrigeración.

4.Industria automotriz:

  • Vehículos eléctricos (VE):Los sustratos de SiC se utilizan cada vez más en la electrónica de potencia para vehículos eléctricos, como inversores, cargadores integrados y convertidores CC-CC.La alta eficiencia del SiC ayuda a prolongar la duración de la batería y a aumentar la autonomía de los vehículos eléctricos.
  • Estaciones de carga rápida:Los dispositivos SiC permiten una conversión de energía más rápida y eficiente en las estaciones de carga rápida de vehículos eléctricos, lo que ayuda a reducir los tiempos de carga y mejorar la eficiencia de la transferencia de energía.

5.Aplicaciones industriales:

  • Dispositivos de accionamiento y control del motor:La electrónica de potencia basada en SiC se utiliza en motores industriales para controlar y regular grandes motores eléctricos con alta eficiencia.y automatización.
  • Sistemas de energía renovable:Los sustratos de SiC son cruciales en los sistemas de energía renovable como los inversores solares y los controladores de aerogeneradores, donde es necesaria una conversión eficiente de energía y una gestión térmica para un funcionamiento confiable.

6.Dispositivos médicos

  • Equipo médico de alta precisión:La estabilidad química y la biocompatibilidad del SiC permiten su uso en dispositivos médicos como sensores implantables, equipos de diagnóstico y láseres médicos de alta potencia.Su capacidad para operar a altas frecuencias con bajas pérdidas de energía es esencial en aplicaciones médicas de precisión.
  • Electrónica resistente a la radiación:La resistencia del SiC a la radiación lo hace adecuado para dispositivos médicos de imagen y equipos de radioterapia, donde la fiabilidad y precisión son cruciales.

7.Optomecánica:

  • Detectores y fotodetectores UV:La brecha de banda del 3C-SiC lo hace sensible a la luz ultravioleta (UV), lo que lo hace útil para detectores UV en aplicaciones industriales, científicas y de monitoreo ambiental.Estos detectores se utilizan en la detección de llama, telescopios espaciales y análisis químico.
  • Diodos y láseres:Los sustratos de SiC se utilizan en diodos emisores de luz (LED) y diodos láser, particularmente en aplicaciones que requieren un alto brillo y durabilidad, como iluminación de automóviles, pantallas,y iluminación de estado sólido.

8.Sistemas energéticos:

  • Transformadores de estado sólido:Los dispositivos de potencia de SiC se utilizan en transformadores de estado sólido, que son más eficientes y compactos que los transformadores tradicionales.
  • Sistemas de gestión de baterías:Los dispositivos de SiC en los sistemas de gestión de baterías mejoran la eficiencia y la seguridad de los sistemas de almacenamiento de energía utilizados en instalaciones de energía renovable y vehículos eléctricos.

9.Fabricación de semiconductores:

  • Substratos de crecimiento epitaxial:La integración de 3C-SiC en sustratos 4H/6H-SiC es importante para reducir los defectos en los procesos de crecimiento epitaxial, lo que conduce a un mejor rendimiento del dispositivo semiconductor.Esto es particularmente beneficioso en la producción de transistores de alto rendimiento y circuitos integrados.
  • Dispositivos de GaN sobre SiC:Los sustratos de SiC se utilizan para la epitaxia de nitruro de galio (GaN) en dispositivos semiconductores de alta frecuencia y alta potencia.,y sistemas de radar.

10.Medio ambiente hostil Electrónica:

  • Exploración de petróleo y gas:Los dispositivos de SiC se utilizan en la electrónica para la perforación de pozos y la exploración de petróleo, donde deben soportar altas temperaturas, presiones y entornos corrosivos.
  • Automatización industrial:En ambientes industriales duros con altas temperaturas y exposición química, la electrónica basada en SiC proporciona fiabilidad y durabilidad para sistemas de automatización y control.

Estas aplicaciones ponen de relieve la versatilidad y la importancia de los sustratos 4H/6H-P 3C-N SiC en el avance de la tecnología moderna en una variedad de industrias.

SiC Substrato 4H/6H-P 3C-N 145,5 mm~150,0 mm Z grado P grado D grado 4

Pregunta y respuesta

¿Cuál es la diferencia entre 4H-SiC y 6H-SiC?

 

En resumen, al elegir entre 4H-SiC y 6H-SiC: Opte por 4H-SiC para electrónica de alta potencia y alta frecuencia donde la gestión térmica es crítica.Elegir 6H-SiC para aplicaciones que prioricen la emisión de luz y la durabilidad mecánica, incluidos los LED y los componentes mecánicos.

 

 

Palabras clave: Wafer de carburo de silicio

 

Quiere saber más detalles sobre este producto
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