SIC monocristalino conductor de 6 pulgadas sobre sustrato compuesto de SIC policristalino
Datos del producto:
Lugar de origen: | China |
Nombre de la marca: | ZMSH |
Pago y Envío Términos:
Minimum Order Quantity: | 1 |
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Precio: | undetermined |
Packaging Details: | foamed plastic+carton |
Delivery Time: | 4weeks |
Payment Terms: | T/T |
Capacidad de la fuente: | 1pcs/month |
Información detallada |
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Tipo de producto: | Wafer epitaxial de SiC de un solo cristal (substrato compuesto) | Wafer Size: | 6 inches (150 mm) |
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Tipo del substrato: | Compuesto de SiC policristalino | Crystal Structure: | 4H-SiC or 6H-SiC Single Crystal |
Resaltar: | Wafer de carburo de silicio de 6 pulgadas,Wafer de carburo de silicio de cristal único |
Descripción de producto
El SiC monocristalino conductor de 6 pulgadas en un sustrato compuesto de SiC policristalino
Resumen del SiC de cristal único conductor de 6 pulgadas en un sustrato compuesto de SiC policristalinoEl
ElSiC de un solo cristal conductor de 6 pulgadas en policristalEl sustrato compuesto de línea SiC es un nuevo tipo de estructura de sustrato semiconductor.
Su núcleo radica en la unión o el crecimiento epitaxial de una película delgada de SiC conductora de un solo cristal sobre un sustrato de carburo de silicio policristalino (SiC).su estructura combina el alto rendimiento del SiC monocristalino (como la alta movilidad del portador y la baja densidad de defectos) con las ventajas de bajo costo y gran tamaño de los sustratos policristalinos de SiC.
Es adecuado para la fabricación de dispositivos de alta potencia y alta frecuencia y es particularmente competitivo en aplicaciones rentables.Los sustratos policristalinos de SiC se preparan mediante procesos de sinterización, lo que reduce el costo y permite tamaños más grandes (como 6 pulgadas), pero su calidad cristalina es más pobre y no es adecuada para dispositivos de alto rendimiento directamente.
Tabla de atributos, características técnicas y ventajas deEl SiC monocristalino conductor de 6 pulgadas en un sustrato compuesto de SiC policristalino
Tabla de atributos
Punto de trabajo | Especificación |
Tipo de producto | Wafer epitaxial de SiC de un solo cristal (substrato compuesto) |
Tamaño de la oblea | 6 pulgadas (150 mm) |
Tipo de sustrato | Compuesto de SiC policristalino |
espesor del sustrato | 400 ∼ 600 μm |
Resistencia del sustrato | < 0,02 Ω·cm (tipo conductor) |
Tamaño del grano policristalino | 50 ‰ 200 μm |
El espesor de la capa epitaxial | 515 μm (se puede personalizar) |
Tipo de dopaje de la capa epitaxial | Tipo N / tipo P |
Concentración del portador (Epi) | 1 × 1015 1 × 1019 cm−3 (opcional) |
Roughness de la superficie epitaxial | < 1 nm (AFM, 5 μm × 5 μm) |
Orientación de la superficie | 4° fuera del eje (4H-SiC) o opcional |
Estructura de cristal | 4H-SiC o 6H-SiC de cristal único |
Densidad de dislocación de los tornillos de roscado | < 5 × 104 cm−2 |
Densidad de dislocación del plano basal (BPD) | < 5 × 103 cm−2 |
Morfología del flujo paso a paso | Claros y regulares |
Tratamiento de la superficie | Polido (para la preparación de epi) |
Embalaje | Contenedor de una sola oblea, sellado al vacío |
Características técnicas y ventajas
Alta conductividad:
Las películas de SiC de un solo cristal logran una baja resistividad (<10−3 Ω·cm) a través del dopaje (por ejemplo, dopaje de nitrógeno para el tipo n), cumpliendo con los requisitos de baja pérdida para dispositivos de potencia.
Alta conductividad térmica:
SiC tiene más de tres veces la conductividad térmica del silicio, lo que permite una disipación de calor efectiva adecuada para entornos de alta temperatura como los inversores EV.
Características de alta frecuencia:
La alta movilidad electrónica del SiC de cristal único permite la conmutación de alta frecuencia, incluidos los dispositivos de RF 5G.
Reducción de costes mediante sustratos policristalinos:
Los sustratos policristalinos de SiC se producen por sinterización en polvo, que cuestan solo alrededor de 1/5 a 1/3 de los sustratos de un solo cristal, y son escalables a 6 pulgadas o más.
Tecnología de unión heterogénea:
Procesos de unión a altas temperaturas y alta presión logran la unión a nivel atómico entre las interfaces del SiC monocristalino y el sustrato policristalino,evitar defectos comunes en el crecimiento epitaxial tradicional.
Mejora de la resistencia mecánica
La alta dureza de los sustratos policristalinos compensa la fragilidad del SiC de un solo cristal, mejorando la confiabilidad del dispositivo.
Display de imagen física
Proceso de fabricación del SiC monocristalino conductor de 6 pulgadas en sustrato compuesto de SiC policristalino
Preparación de sustrato de SiC policristalino:
El polvo de carburo de silicio se forma en sustratos policristalinos (~ 6 pulgadas) mediante sinterización a alta temperatura.
Crecimiento de la película de SiC monocristalino:
Las capas de SiC de un solo cristal se cultivan epitaxialmente en el sustrato policristalino mediante deposición química de vapor (CVD) o transporte físico de vapor (PVT).
Tecnología de unión:
La unión a nivel atómico en las interfaces monocristalinas y policristalinas se logra mediante unión de metales (por ejemplo, pasta de plata) o unión directa (DBE).
Tratamiento de recocido:
El recocido a alta temperatura optimiza la calidad de la interfaz y reduce la resistencia al contacto.
Áreas de aplicación principales deel SiC monocristalino conductor de 6 pulgadas en un sustrato compuesto de SiC policristalino
Vehículos de nueva energía
- Inversores principales: Los MOSFET de SiC de cristal único conductores mejoran la eficiencia del inversor (reducen las pérdidas en un 5% a 10%) y reducen el tamaño y el peso. - Cargadores a bordo (OBC):Características de conmutación de alta frecuencia acortan los tiempos de carga y admiten plataformas de alto voltaje de 800V.
Energía industrial y energía fotovoltaica
- Inversores de alta frecuencia: lograr una mayor eficiencia de conversión (> 98%) en los sistemas fotovoltaicos, reduciendo el coste global del sistema.
- Redes inteligentes: reducir las pérdidas de energía en los módulos de transmisión de corriente continua de alto voltaje (HVDC).
Aeroespacial y Defensa
- Dispositivos resistentes a la radiación: la resistencia a la radiación de los SiC de un solo cristal es adecuada para los módulos de gestión de energía por satélite.
- Sensores del motor: la tolerancia a altas temperaturas (> 300°C) simplifica el diseño del sistema de refrigeración.
RF y comunicaciones
- Dispositivos de onda milimétrica 5G: los GaN HEMT basados en SiC de cristal único proporcionan una salida de alta frecuencia y alta potencia.
- Comunicaciones por satélite: sustratos policristalinos resistentes a las vibraciones, adaptados a los ambientes espaciales hostiles.
Pregunta y respuesta
- ¿ Qué?¿Qué conductividad tiene un SiC de cristal único conductor de 6 pulgadas en un sustrato compuesto policristalino de SiC?
A: ¿Qué quieres decir?Fuente de conductividad: La conductividad del SiC monocristalino se consigue principalmente mediante el dopaje con otros elementos (como nitrógeno o aluminio).que resultan en diferentes conductividades eléctricas y concentraciones de portadores.
Influencia del SiC policristalino: El SiC policristalino suele mostrar una conductividad más baja debido a defectos de red y discontinuidades que afectan sus propiedades conductoras.con un contenido de aluminio superior o igual a 10%,, la parte policristalina puede tener algún efecto inhibidor sobre la conductividad general.
Ventajas de la estructura compuesta:La combinación de SiC de cristal único conductor con SiC policristalino puede mejorar potencialmente la resistencia general a altas temperaturas y la resistencia mecánica del material, al mismo tiempo que se logra la conductividad deseada a través de un diseño optimizado en ciertas aplicaciones.
Potencial de aplicación: This composite structure is often used in high-power electronic devices and high-temperature environments because its excellent thermal and electrical conductivity make it suitable for operation under extreme conditions.
Otras recomendaciones relacionadas con el producto
2/4/6/8 pulgadas de obleas de SiC