Introducción del producto

Las obleas grabadas en zafiro se fabrican con sustratos de zafiro monocristalino (Al2O3) de alta pureza, procesados mediante fotolitografía avanzada combinada conTecnologías de grabado en seco y grabado en húmedoLos productos cuentan con patrones microestructurados muy uniformes, una excelente precisión dimensional y una destacada estabilidad física y química.que los hace adecuados para aplicaciones de alta fiabilidad en microelectrónica, optoelectrónica, envasado de semiconductores y campos de investigación avanzada.

El zafiro es conocido por su excepcional dureza y estabilidad estructural, con una dureza de Mohs de 9, sólo superada por el diamante.se pueden formar microestructuras bien definidas y repetibles en la superficie de zafiro, garantizando bordes de patrón nítidos, geometría estable y una excelente consistencia entre lotes.

Tecnologías de grabado

El grabado en húmedo

El grabado en húmedo utiliza soluciones químicas especializadas para eliminar selectivamente el material de zafiro y formar las microestructuras deseadas.y un coste de procesamiento relativamente más bajo, por lo que es adecuado para el patrón de gran superficie y aplicaciones con requisitos moderados de perfil de pared lateral.

Al controlar con precisión la composición de la solución, la temperatura y el tiempo de grabado, se puede lograr un control estable de la profundidad del grabado y la morfología de la superficie.Las obleas de zafiro grabadas en húmedo se utilizan ampliamente en sustratos de embalaje LED, capas de soporte estructural y aplicaciones seleccionadas de MEMS.

Grabado en seco

El grabado en seco, como el grabado con plasma o el grabado con iones reactivos (RIE), emplea iones de alta energía o especies reactivas para grabar zafiro a través de mecanismos físicos y químicos.Este método proporciona una anisotropía superior, alta precisión y excelente capacidad de transferencia de patrones, lo que permite la fabricación de características finas y microestructuras de alta relación de aspecto.

El grabado en seco es particularmente adecuado para aplicaciones que requieren paredes laterales verticales, definición de características nítidas y control dimensional estricto, como dispositivos Micro-LED,embalaje avanzado de semiconductores, y estructuras MEMS de alto rendimiento.

Principales características y ventajas

• Substrato de zafiro monocristalino de alta pureza con excelente resistencia mecánica

• Opciones de proceso flexibles: grabado en húmedo o grabado en seco según los requisitos de la aplicación

• Alta dureza y resistencia al desgaste para una fiabilidad a largo plazo

• Excelente estabilidad térmica y química, adecuada para ambientes hostiles

• Alta transparencia óptica y propiedades dieléctricas estables

• Alta uniformidad del patrón y consistencia de lote a lote

Aplicaciones

• Envases y sustratos de ensayo de LED y micro-LED

• Las demás máquinas y aparatos para la fabricación de productos de la partida 9302

• Sensores MEMS y sistemas microelectromecánicos

• Componentes ópticos y estructuras de alineación de precisión

• Institutos de investigación y desarrollo de microestructuras personalizadas

Personalización y servicios

Ofrecemos servicios completos de personalización, incluyendo diseño de patrones, selección de métodos de grabado (húmedo o seco), control de profundidad de grabado, espesor de sustrato y opciones de tamaño,con una superficie superior a 300 m2,Procedimientos estrictos de control de calidad e inspección aseguran que cada oblea grabada en zafiro cumpla con altos estándares de fiabilidad y rendimiento antes de la entrega.

Preguntas frecuentes

P1: ¿Cuál es la diferencia entre el grabado húmedo y el grabado seco para zafiro?

A: ¿Qué quieres decir?El grabado en húmedo se basa en reacciones químicas y es adecuado para un procesamiento de gran superficie y rentable, mientras que el grabado en seco utiliza técnicas basadas en plasma o iones para lograr una mayor precisión,mejor anisotropíaLa elección depende de la complejidad estructural, los requisitos de precisión y las consideraciones de costo.

P2: ¿Qué proceso de grabado debería elegir para mi aplicación?

A: ¿Qué quieres decir?El grabado en húmedo se recomienda para aplicaciones que requieren patrones uniformes con una precisión moderada, como los sustratos LED estándar.o aplicaciones Micro-LED y MEMS donde la geometría precisa es crítica.

P3: ¿Puede apoyar patrones y especificaciones personalizadas?

A: ¿Qué quieres decir?Sí, soportamos diseños totalmente personalizados, incluyendo diseño de patrones, tamaño de las características, profundidad de grabado, grosor de la oblea y dimensiones del sustrato.