Plano C (0001), Plano A (11-20), Plano R (1-102) o Personalizado
Forma del sustrato:
Redondo, Cuadrado, Rectángulo o Personalizado
Proceso de metalización:
Sputtering, evaporación u otros procesos calificados
Capa de adhesión:
Ti, Cr u otros materiales especificados
Capa barrera:
Ni, Pt u otros materiales, según el diseño
Capacidad de la fuente:
Por caso
Resaltar:
Metallized sapphire substrates for RF devices
,
Microwave microelectronic sapphire substrates
,
Sapphire substrates with metallized coating
Descripción de producto
Product Overview Metallized sapphire substrates are functional substrate materials manufactured by depositing metallic thin films onto high-purity single-crystal sapphire (Al₂O₃). By combining the excellent electrical insulation, high hardness, chemical stability, and thermal stability of sapphire with the functional properties of metal films, these substrates provide a versatile solution for advanced electronic devices, RF components, optoelectronic systems, and semiconducto