Nombre De La Marca: | ZMSH |
MOQ: | 1 |
Precio: | by case |
Detalles Del Embalaje: | custom cartons |
Condiciones De Pago: | T/T |
Máquina de Pulido por Haz de Iones
Precisión a Nivel Atómico · Procesamiento sin Contacto · Superficies Ultra Lisas
Descripción General de la Máquina de Pulido por Haz de Iones
La Máquina de Conformado/Pulido por Haz de Iones CNC opera según el principio de pulverización iónica. En condiciones de vacío, la fuente de iones genera un haz de plasma, que se acelera en un haz de iones que bombardea la superficie de la pieza de trabajo para la eliminación de material a nivel atómico, lo que permite la fabricación ultra precisa de componentes ópticos.
Esta tecnología ofrece procesamiento sin contacto, libre de estrés mecánico o daño subsuperficial, y es ideal para óptica de alta precisión en astronomía, aeroespacial, semiconductores e investigación científica.
Procesamiento sin contacto – Capaz de manejar todas las formas de superficie
Tasa de eliminación estable – Precisión de corrección de figura subnanométrica
Sin daño subsuperficial – Preserva la integridad óptica
Alta consistencia – Fluctuación mínima en materiales de diferente dureza
Corrección de baja/media frecuencia – No genera errores de media-alta frecuencia
Bajo costo de mantenimiento – Operación continua a largo plazo con un tiempo de inactividad mínimo
Superficies Disponibles:
Componentes Ópticos Simples: Plano, esfera, prisma
Componentes Ópticos Complejos: Asférica simétrica/asimétrica, asférica fuera de eje, superficie cilíndrica
Componentes Ópticos Especiales: Óptica ultra delgada, óptica de listones, óptica hemisférica, óptica conforme, placas de fase, superficies de forma libre, otras formas personalizadas
Materiales Disponibles:
Vidrio óptico común: Cuarzo, microcristalino, K9, etc.
Óptica infrarroja: Silicio, Germanio, etc.
Metales: Aluminio, Acero Inoxidable, Aleación de Titanio, etc.
Materiales cristalinos: YAG, Carburo de Silicio Monocristalino, etc.
Otros materiales duros/frágiles: Carburo de Silicio, etc.
Calidad/Precisión de la Superficie:
PV < 10 nm
RMS ≤ 0.5 nm
Precisión de eliminación a nivel atómico – Permite superficies ultra lisas para sistemas ópticos exigentes
Compatibilidad versátil de formas – Desde óptica plana hasta formas libres complejas
Amplia adaptabilidad de materiales – Desde cristales de precisión hasta cerámicas duras y metales
Capacidad de gran apertura – Procesa óptica de hasta Φ4000 mm
Operación estable extendida – Funciona de 3 a 5 semanas sin mantenimiento de la cámara de vacío
IBF350 / IBF750 / IBF1000 / IBF1600 / IBF2000 / IBF4000
Ejes de Movimiento: 3 ejes / 5 ejes
Tamaño Máximo de la Pieza de Trabajo: hasta Φ4000 mm
Artículo | Especificación |
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Método de Procesamiento | Eliminación de material por pulverización iónica al vacío |
Tipo de Procesamiento | Conformado y pulido de superficies sin contacto |
Superficies Disponibles | Plano, esfera, prisma, asférica, asférica fuera de eje, superficie cilíndrica, superficie de forma libre |
Materiales Disponibles | Cuarzo, vidrio microcristalino, K9, zafiro, YAG, carburo de silicio, carburo de silicio monocristalino, silicio, germanio, aluminio, acero inoxidable, aleación de titanio, etc. |
Tamaño Máximo de la Pieza de Trabajo | Φ4000 mm |
Ejes de Movimiento | 3 ejes / 5 ejes |
Estabilidad de Eliminación | ≥95% |
Precisión de la Superficie | PV < 10 nm; RMS ≤ 0.5 nm (RMS típico < 1 nm; PV < 15 nm) |
Capacidad de Procesamiento | Corrige errores de baja a media frecuencia sin introducir errores de media a alta frecuencia |
Operación Continua | 3 a 5 semanas sin mantenimiento de la cámara de vacío |
Costo de Mantenimiento | Bajo |
Modelos Típicos | IBF350 / IBF750 / IBF1000 / IBF1600 / IBF2000 / IBF4000 |
Caso 1 – Espejo Plano Estándar
Pieza de trabajo: Plano de cuarzo D630 mm
Caso 2 – Espejo Reflectante de Rayos X
Pieza de trabajo: Plano de silicio de 150 × 30 mm
Resultado: PV 8.3 nm; RMS 0.379 nm; Pendiente 0.13 µrad
Caso 3 – Espejo Fuera de Eje
Pieza de trabajo: Espejo rectificado fuera de eje D326 mm
Resultado: PV 35.9 nm; RMS 3.9 nm
Óptica astronómica – Espejos primarios/secundarios de grandes telescopios
Óptica espacial – Teledetección por satélite, imágenes del espacio profundo
Sistemas láser de alta potencia – Óptica ICF, modelado de haces
Óptica de semiconductores – Lentes y espejos de litografía
Instrumentación científica – Espejos de rayos X/neutrones, componentes estándar de metrología